文献类型：期刊文献

中文题名：多弧离子镀镀制掺氮二氧化钛薄膜及其光吸收特性的研究

英文题名：Study on light absorption properties of nitrogen-doped titanium dioxide thin films prepared by multi-arc ion coating

作者：马永新[1];周友苏[1];万春萍[1];彭京龙[1]

第一作者：马永新

机构：[1]北京联合大学机电学院

第一机构：北京联合大学机器人学院

年份：2006

卷号：43

期号：5

起止页码：1-5

中文期刊名：真空

外文期刊名：Vacuum

收录：CSTPCD;;北大核心:【北大核心2004】；

语种：中文

中文关键词：多弧离子镀;二氧化钛;薄膜;氮掺杂;光吸收特性

外文关键词：multi-arc ion coating; TiO2; thin film; nitrogen doping;light absorption properties

摘要：利用多弧离子镀在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜和氮掺杂的TiO2薄膜样品，并对样品进行了220～500℃温度的热处理，通过X射线衍射（XRD）以及UV—Vis分光光度计等测试手段对热处理前后的样品的结构、光吸收特性进行了分析。结果表明：制备出的薄膜为非晶态结构，热处理后向锐钛矿、金红石相转变。理想工艺下镀制的掺氮TiO2薄膜经400℃热后，TiO2薄膜的光吸收限可由385nm红移至500nm。
TiO2 thin films and nitrogen-doped TiO2 thin films were prepared on glass substrates by multi-arc ion coating and then annealed at 220- 500℃ for 0. 5hr. The phase transformation and light absorption properties of these films were characterized by meams of XRD and UV-Vis spectrophotometer. The results showed that the microstructures of thin films are amorphous and transform into anatase/rutile phase after annealed at different temperatures. The light absorption limit of the N-doped thin films prepared under optimal technological conditions and annealed at 400℃ has an obvious red-shift from 385nm to 500nm.